全自動干法制粒機的清潔與消毒：GMP要求

瀏覽次數：77更新日期：2025-11-28

　　在制藥、食品等高度監管行業，全自動干法制粒機作為核心生產設備，其清潔與消毒直接關系到產品質量與合規性。依據《藥品生產質量管理規范》（GMP），設備清潔需實現“可見殘留清除+微生物污染控制”的雙重目標，而干法制粒機因結構復雜（含料斗、壓輥、制粒室、篩網等部件）、物料易殘留的特性，更需建立科學嚴謹的清潔消毒體系。

　　GMP對清潔消毒的核心要求

　　GMP強調“防止污染與交叉污染”，要求清潔驗證需證明設備表面無活性藥物成分（API）、輔料及微生物殘留，且清潔程序可重復、可追溯。具體到干法制粒機，需滿足三點：一是物理清潔，消除物料黏附；二是化學消毒有效，殺滅細菌、霉菌等微生物；三是清潔效果可量化驗證（如TOC檢測、微生物限度檢查）。

　　清潔消毒的關鍵步驟

　　1.預處理：生產結束后立即拆卸可拆卸部件（如篩網、壓輥），清除大塊物料，避免干燥后殘留硬化。

　　2.主清潔：采用“預沖洗-清潔劑清洗-終沖洗”三步法。預沖洗用去離子水去除松散殘留；清潔劑需根據物料性質選擇（如堿性清潔劑去油脂、酸性清潔劑除無機鹽），濃度與時間需經驗證；終沖洗至淋洗水pH、電導率與原水一致，確保無清潔劑殘留。

　　3.消毒：常用75%乙醇或0.1%-0.2%過氧乙酸溶液擦拭或噴淋，重點處理密封件、縫隙等易滋生微生物的部位。消毒后需無菌環境晾干，避免二次污染。

　　4.干燥與組裝：清潔消毒后用壓縮空氣吹掃或低溫烘干，防止水分殘留導致微生物繁殖；組裝前檢查部件完整性，避免清潔死角。

　　驗證與持續改進

　　清潔消毒程序需通過驗證確認有效性：取樣點覆蓋最難清潔部位（如壓輥間隙、篩網背面），檢測方法包括目視檢查、棉簽擦拭法（測API殘留）、接觸皿法（測微生物）。同時，需定期回顧清潔記錄，結合產品切換、設備維護等情況優化程序，確保持續符合GMP要求。

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